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Título de Acceso Abierto

Caracterización superficial de nanomateriales y sistemas de interés nanotecnológico

Gustavo Daniel Ruano Sandoval Roberto Román Koropecki David Comedi Jorge Feugeas Eduardo Lombardo Julio Ferrón

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Resumen/Descripción – provisto por el repositorio digital
En este trabajo se estudiaron, mediante técnicas de análisis de superficies dos sistemas de interés nanotecnológico: Peliculas ultradelgadas de Fluoruro de aluminio (AlF3) y Silicio nanoporoso. El AlF3 es un aislador, tecnológicamente útil como resina electrolitográfica, que permite la fabricación de películas de espesor nanométrico. Durante los procedimientos usuales de fabricación de dispositivos, el bombardeo iónico, que se utiliza para producir patrones, puede perjudicar la resina debido a la producción de electrones secundarios. Se adquirieron espectros energéticos de la emisión de electrones secundarios (SEE) por bombardeo iónico con distintos iones de entre 1 y 5keV de energía cinética tanto de un sustrato de cobre monocristalino, como de películas ultra delgadas de AlF3 producidas sobre él. Se propusieron mecanismos de SEE diferentes para cada uno de los casos; el mecanismo de aceleracion llamado Fermi Shuttle en caso del metal y la emisión electrónica por decaimiento de excitones en el aislador. El silicio nanoporoso es un material compuesto de nanohilos de Si y presenta fenómenos de confinamiento cuántico que lo convierten en una promesa en el campo de la optoelectronica. Se estudió en este caso la SEE inducida por bombardeo simultáneo de iones y electrones hallándose una disminución reversible la intensidad en dicha condición con respecto de la situación de irradiación exclusivamente electrónica. El bombardeo electrónico promueve la efusión del hidrógeno que pasiva los nanohilos. Se demostró que la cinética de desorción es análoga a la establecida por Staebler y Wronski para la degradación de silicio amorfo hidrogenado bajo iluminación.
Palabras clave – provistas por el repositorio digital

Nanomaterials; Secondary electron emission spectroscopy (SEE); Ultrathin aluminum fluoride films; Nanoporous silicon (NP Si); Ion beams monitoring; Electron induced hydorgen desorption in NP Si; Nanomateriales; Emision de electrones secundarios (SEE); Películas ultradelgadas de fluoruro de aluminio; Silicio poroso nanoestructurado (NP Si); Monitor de haces iónicos; Desorción de hidrogeno en NP Si inducida por irradiación con electrones

Disponibilidad
Institución detectada Año de publicación Navegá Descargá Solicitá
No requiere 2010 Biblioteca Virtual de la Universidad Nacional del Litoral (SNRD) acceso abierto

Información

Tipo de recurso:

tesis

Idiomas de la publicación

  • español castellano

País de edición

Argentina

Fecha de publicación

Cobertura temática

nanotecnologia

Nanotecnología