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Título de Acceso Abierto

Nanoimprint Lithography Technology and Applications

Resumen/Descripción – provisto por la editorial

No disponible.

Palabras clave – provistas por la editorial

nanoimprint lithography; polymer; formulation development; surface chemistry; click chemistry; plasmons; Bragg SPPs; angle of incidence; grating; organic solar cell; ultraviolet nanoimprint lithography; durability; anisotropy; contact angle; line and space; high aspect ratio micro-structure; roll-to-plate nanoimprint lithography; superhydrophobic; oleophobic; biomimetic surface; large-area patterning; negligible residual layer; partial cavity filling; guiding chart; defect avoidance; hydrodynamic instabilities; T-NIL; UV-NIL; el-UV-NIL; el-T-NIL; optical planar waveguides; roll-to-plate R2P nanoimprinting; UV-curable polymers; inorganic-organic hybrid polymer; optical losses; SmartNIL; R2R UV-NIL; neuronal cell assay; nanoimprint lithography (NIL); undercut features; master; Blu-Ray patterning; reactive ion etching; biomimetics; morpho butterfly; n/a

Disponibilidad
Institución detectada Año de publicación Navegá Descargá Solicitá
No requiere Directory of Open access Books acceso abierto

Información

Tipo de recurso:

libros

ISBN electrónico

978-3-0365-4481-6

País de edición

Suiza