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Título de Acceso Abierto
Thin Film Processes
Resumen/Descripción – provisto por la editorial
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Palabras clave – provistas por la editorial
electrode; layer-by-layer; liquid crystal device; thin film; 6082-T6 aluminum alloy; Plasma Electrolytic Oxidation (PEO); Plasma Spray Ceramic (PSC); Hard Anodizing (HA); anodic polarization; corrosion resistance; lemongrass; Cymbopogon citratus; convection drying; mathematical modeling; moisture diffusivity; activation energy; Jeffrey, Maxwell, Oldroyed-B fluids; unsteady stretching surface; magnetic field; homotropy analysis method (HAM); entropy generation; second-grade fluid; nanofluid; liquid films; time depending stretching surface; HAM; Al(OH)3; BaSO4; filler; ultrafine powder coatings; Sisko fluid; unsteady stretching sheet; thin films; MHD; HAM and numerical method; coatings industry; digitalization; development process; technical enabler; process analysis; process simulation; hydrocarbon fuel; coke; anti-coking coating; growth characteristics; n/a
Disponibilidad
Institución detectada | Año de publicación | Navegá | Descargá | Solicitá |
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No requiere | Directory of Open access Books |
Información
Tipo de recurso:
libros
ISBN electrónico
978-3-03936-265-3
País de edición
Suiza