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Título de Acceso Abierto

Advances in Chemical Vapor Deposition

Resumen/Descripción – provisto por la editorial

No disponible.

Palabras clave – provistas por la editorial

APCVD; VO2; processing parameters; 2D; chemical vapor deposition; atomic layer deposition; aluminum oxide; aluminum tri-sec-butoxide; thin film; carbon nanotubes; residual gas adsorption; residual gas desorption; field emission; atmospheric pressure CVD; low pressure CVD; hybrid CVD; aerosol assisted CVD; pulsed CVD; perovskite photovoltaic nanomaterials; stabilization; structural design; performance optimization; solar cells; anatase single crystals; process-induced nanostructures; competitive growth; pp-MOCVD; vanadium pentoxide; electrochromic; spray pyrolysis; ammonium metavanadate; CVD; electrochromism; perovskite photovoltaic materials; TiO2; Al2O3; V2O5; computational fluid dynamics

Disponibilidad
Institución detectada Año de publicación Navegá Descargá Solicitá
No requiere Directory of Open access Books acceso abierto

Información

Tipo de recurso:

libros

ISBN electrónico

978-3-03943-924-9

País de edición

Suiza