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Título de Acceso Abierto
Advances in Chemical Vapor Deposition
Resumen/Descripción – provisto por la editorial
No disponible.
Palabras clave – provistas por la editorial
APCVD; VO2; processing parameters; 2D; chemical vapor deposition; atomic layer deposition; aluminum oxide; aluminum tri-sec-butoxide; thin film; carbon nanotubes; residual gas adsorption; residual gas desorption; field emission; atmospheric pressure CVD; low pressure CVD; hybrid CVD; aerosol assisted CVD; pulsed CVD; perovskite photovoltaic nanomaterials; stabilization; structural design; performance optimization; solar cells; anatase single crystals; process-induced nanostructures; competitive growth; pp-MOCVD; vanadium pentoxide; electrochromic; spray pyrolysis; ammonium metavanadate; CVD; electrochromism; perovskite photovoltaic materials; TiO2; Al2O3; V2O5; computational fluid dynamics
Disponibilidad
Institución detectada | Año de publicación | Navegá | Descargá | Solicitá |
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No requiere | Directory of Open access Books |
Información
Tipo de recurso:
libros
ISBN electrónico
978-3-03943-924-9
País de edición
Suiza